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第四百八十五章 焦虑者

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  台积电的竞业限制一般是两年。

  要联系蒋尚义有诸多渠道,如果是中芯想接触,通过TI的老同事最为稳妥。

  若想让他来大陆谈,找一个学术活动的名义直接通过台湾半导体产业协会去邀请最为妥当。

  俩人一路聊着挖人的路径,到了12英寸厂区——中芯65nm、甚至是45nm研发的核心阵地,也是张汝京多年心血的重中之重。

  陈学兵也是刚知道,中芯可能即将拥有一些45nm的技术。

  中芯目前正在跟IBM谈45nm Bulk CMOS的授权,IBM通过一次性授权费+按晶圆数持续提成的方式成熟方案,让这座12英寸厂能够生产一些授权范围内的芯片种类。

  这是个包含工艺技术包+配套IP与设计支持的完整授权,有针对45nm逻辑器件的曝光条件、光刻胶选型、显影/蚀刻匹配、套刻精度(Overlay)控制、缺陷管控等流程,能补齐中芯先进逻辑的工艺短板。

  这条路线能让中芯快速实现45nm可量产,作为一个技术跳板,完成Know-how。

  但是,完全不自主。会长期受限于授权条款,仅能做低功耗逻辑芯片,无法承接高端 CPU/GPU、射频、存储、HPC等高毛利订单。

  相当于IBM说:“我知道你们有个高端厂子,但一时半会生产不了最优的制程,不如我给你们一套方案参与生产,但是利润得分我们一半,而且你们也不能抢我们的高端生意”。

  陈学兵听到这里眉头皱了皱,发现一个关键的逻辑问题。

  “你们能通过IBM的授权生产45nm?没有多重曝光技术,你们也能生产45nm?!”

  此时正到研发楼前。

  张汝京神秘一笑,抬手道:“这是机密,进去说。”

  ...

  陈总迫不及待。

  众人按流程换上防尘服、戴上口罩和发帽,经过风淋室净化后,才踏入洁净度达百级的研发车间。

  一进门,巨大的晶圆传送设备正平稳运转,淡蓝色的光刻灯在密闭腔体内闪烁,穿着同款防尘服的工程师们低着头,专注地操作着设备,偶尔低声交流几句技术参数,整个车间只剩下设备运行的轻微嗡鸣。

  张汝京走在最前面,让工作人员把领导们带去参观光刻机,而后把陈学兵拉到一边,手指向不远处一台正在调试的设备旁边,那里有一片空置区域,声音透过口罩传来:

  “这是我们给ASML引进的193i浸没式光刻机预留的区域。”

  这话一出,陈总有点震惊了。

  “从什么渠道搞来的?瓦森纳协定对这类先进半导体设备有出口限制,中芯可以不遵守?”

  张汝京小心地看了看正在参观机器的李市长他们,而后又看向跟着陈学兵的辛梦真。

  “这是辛总,以后也是中芯的战友,你直说吧。”陈学兵道。

  张汝京这才叹了口气,语气里满是无奈与不易:“哪能不遵守?这台设备能引进来,全靠中芯的国际股东从中斡旋,还有IBM的合同,才勉强通过荷兰方面的出口审批,走的是正规商业采购渠道,不过还得等一项美国特殊许可批下来,才能启运。”

  他顿了顿,又补充:“瓦森纳协定的限制不是绝对的,它更像是一种‘自愿出口管制’,荷兰方面会根据设备用途、采购方背景综合评估,我们当时承诺这台设备仅用于成熟制程研发,再加上外资股东背书,才侥幸获批。”

  此时,陈学兵和辛梦真对了个眼神。

  “美国特殊许可...不会是VEU吧。”辛梦真第一次开口,问道。

  “对,你们知道?”张汝京有些惊奇。

  中芯申请这项许可是最近的事情,目前还在准备材料。

  此时,俩人口罩下的脸都有了笑容。

  “193i...你们拿到的是XT1250i还是XT1900i?”辛梦真快速追问。

  193i,不是ASML一家的专属型号名,而是行业通用技术类别称呼,是193nmArF浸没式光刻机的总称。

  “i”是immersion,浸没式。

  浸没式是在投影镜头和晶圆之间填充高纯度去离子水,利用水折射率n≈1.44,代替空气n≈1,从而提高有效数值孔径 NA,提升分辨率。

  XT:1250i是2004ASML的初代193i,NA值0.85,是65nm节点的工艺验证和试产机,分辨率、产能、套刻精度都不够45nm量产。

  而XT:1900i是今年的高NA升级款,NA值约等于1.35,是45nm量产级主力机。

  NA值是光刻机镜头的“眼力值”,数值越大,镜头越厉害,能刻的线就越细。

  当然,还要双工件台、光源和环境稳定性的配合。

  XT:1900i不仅更新了镜头,还采用了新一代双台,替换了高级照明等。

  “是XT1900i。”张汝京给出了肯定的答案,而后打量着辛梦真问道:“辛总...不是陈总的秘书?”

  “她是香港DCT光刻...不,DCT医疗的董事长,现在正收购一家香港眼科医疗上市公司,准备研究光学物镜、CT器械,也在申请美国VEU。”

  陈学兵有意说漏了嘴,张汝京一下睁大了眼睛。

  这事,不需要全说明白,懂的都懂。

  “哦...”张汝京恍然,想了半天,深深点头:“是条路子,陈总,之前我一直以为你是财务型投资人,没想到你想得这么深...误会了。”

  陈学兵有口罩遮掩,放任自己露出了一丝自得的笑。

  VEU,这一步果然没错。

  ASML居然会把新型浸没式光刻机卖给中芯国际。

  怪不得中芯国际一直能跟在先进世代的屁股后面。

  想想也是,ASML现在可以没有EUV的垄断能力,虽然是比日本厂商先进,但没有太大的议价权。

  他们也要挣钱完成全面超越。

  话说前世中芯国际还下单买了ASML的EUV,合约都签好了,是因为美国的持续施压才取消了交易。

  妈的,要是这么想想,如果早点下单...搞好国际关系未尝不是一条路啊,自己瞎研究什么?

  但是转念之间,陈学兵又叹了口气。

  连他自己都这么想,也怪不得大家都相信所谓的“全球分工”了。

  他回想着前世的制裁,脑子里赶紧摒除了这些杂念。

  不仅是他,也不止是现在的人。

  前世刚制裁的时候人人紧张,可一听到中芯国际能通过多重曝光达到7nm,甚至5nm的极限,大家又安逸下来了。

  「原来咱们还能走弯道啊。」

  「没关系,咱们有就行,卡不了咱们脖子。」

  普通人就要安逸,只要有个理由,就能安逸下来,就能硬气起来。

  可是他已经不是普通人了,还能这么想吗?

  他能用赢学思维吗?

  恐怕得时刻思败才对。

  多重曝光和先进封装能做出来7nm、5nm,但只能做到物理上存在,做不到商业存活、技术迭代、长远自主。

  坚持研发新型光刻机,为的是守住芯片产业的成本底线、性能底线、技术主权底线。

  多重曝光只是续命术,不是进化论。

  走这条路,他甚至已经不能从商业上思考问题,而是站在科学伦理和工业效率的角度,思考长期产业竞争,这是道必须坚持到底的战略必答题。

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