陈学兵刚到中芯12英寸晶圆厂，就收到任颖的短信。
「王兴的事安排好了。」
他笑了笑，挺想问问怎么安排的。
王兴是能从互联网界最残酷的两场竞争，千团大战和外卖大战里杀出重围夺冠的人才，光凭这一点他的能力就数不胜数，产品能力、烧钱效率、地推能力、组织能力、降本增效....
也因为这些，名声不太好，克扣骑士什么的。
但从商业的角度出发，这个人摆到那种竞争激烈的产品上绝对是个猛将。
他心里很重视，有意培养一下，如果能当个统才，又愿意留下来，可以把星联，甚至是更远的布局交给他。
但现目前毕竟只是招募一个产品经理，他得习惯把这种事交给下面去做了，否则以后根本忙不过来。
眼看，又要控股第五家极为重要的公司了。
中芯，如果达到想象中的成就，再与奇点、展讯结合起来，将是一个庞大的科技闭环。
而且现在，他渐渐感觉到这个科技链已经开始自启动了，每家公司都有了源源不断的研发动力，只要接上长征和股安建设，乃至上市、融资等一些输血链条，把血管也变得粗壮起来，一颗科技心脏就要开始跳动。
有了这颗心脏，越来越多的产品便会铸成血肉，生成巨人的形状。
车停下，他思绪回复之时，感觉手臂上都起了鸡皮疙瘩。
兴奋，甚至有点震颤。
下车，张汝京秘书在工业厂房门口等他，告知人都进了Fab（生产区）。
又是一套麻烦的流程，换了一身全包裹的衣服，风淋除尘，静电检测，过了三道门，才进了Fab。
讲道理，陈学兵很需要这里，却不太喜欢来这里。
“张总，梁总，邱总！”
陈学兵看到人打了一圈招呼。
大家穿成这样，握手的客套也免了，好在里面很安静，话声很清晰。
这还是洁净生产区，有走道和很多区域，如果是放光刻机的超洁净室，连呼吸声都会很明显。
“邱总很久没回来了，我带着他到咱们的新厂转转。”张汝京解释道，又指了指不远处透明玻璃的超洁净室，“可惜啊，咱们的新光刻机还没到。”
陈学兵看到那片仍旧空荡荡的区域，点点头，有些好奇道：“新的光刻机挺大吧？周围这么窄，那个门也这么小，以后来了设备怎么进去？”
张汝京呵呵笑：“看到侧面那面墙了吗？平时是和周围一体的，要保证洁净度，但是有需要可以整面打开，那就是设备通道口，正上方的厂房屋顶位置也有吊装口，打开吊装口，用大型吊车从屋顶吊进来放在通道口，然后清洁，除静电，用气垫搬运车推进去。”
“哦...”陈学兵恍然，“机关不少啊。”
张汝京不舍地看着周围：“几十亿的厂子，刻蚀机最贵，光刻机其次，其他的清洁、监测、机械，都造价不菲，等会我给你一个名单，以后我不在，要建这样的厂，还得依靠他们。”
陈学兵点点头：“放心，你可以继续在半导体行业工作，我每年会拿出一笔钱给你做人才基金会，每年不少于三个亿，上海，苏州，或是周围几个城市，你来定地方，除了硬件，还要培养设计人才，运营方案我会让人给你做规划。”
话说着，本来在低声聊天的梁孟松和邱慈云也看了过来。
俩人看样子是已经熟悉上了，陈学兵进来的时候就见他们在聊。
“陈总，你要投资这么大，就没想过回报，中芯这些年，过得可不容易。”邱慈云主动搭话道。
陈学兵笑了笑：“我旗下未来的很多业务都要靠中芯来支撑，只要制程赶上去，我的很多想法就能实现了，邱总看样子是同意回来了？”
邱慈云迟疑了一下，没回答。
“回来吧。”陈学兵温和道：“待遇好说，钱也不是问题，订单更不是问题，最多下个月，我会操作一笔53亿的资金投进来，7.05亿美元，后续资金也会源源不断，我保证让你们打一场富裕的仗。”
3G产业基金分红以后有本金42亿，加上ARM中国股权转换11亿，共53亿。
这笔钱，完全足够梁孟松的前期开销了，甚至足够支付台积电的赔偿和技术授权费。
不止是邱慈云，张汝京和梁孟松都有些动容。
“以后中芯缺钱，找我融资就行了，股票市场上的反应你们无需再去在意，专事生产和技术研发就好。”陈学兵又补充道。
邱慈云深吸一口气。
天降大能于中芯，挖来了台积电的研发核心人物，摁着台积电给授权，妥善安置张汝京，还给这么一句承诺。
变了，中芯真是要大变了。
又是老厂子，有感情。
还给他一个董事长职位。
他此时已经想点头，只是强忍着几分矜持。
陈学兵也言尽于此，给张汝京递了个眼神。
张汝京领会，拉着邱慈云去一边：“老邱啊，以前没有认可你的路线是我的问题，你看，季明华，周梅生，涂良山这些你的老部下，我都提拔到工程副总裁，厂长...”
俩人聊着走远。
留下梁孟松，盯着那个空荡荡的超洁净室，忽然道：“你确定下个月资金能到位，我就请张总联系ASML下新的订单了，等机器到了我还要做很多改动，需要些时间，最好能一次拿三台，定制套件会方便一些。”
“没问题。”陈学兵笃定道。
说着，心里又是惊叹。
这神人居然还能改ASML的新机器。
“对了，你那天说XT1900i做FinFET至少要三台联动，如果...ASML下一代浸没式出来，单次曝光的制程节点更进一步，那就不需要这么多机器了吧？”
“不能。”梁孟松打量了他一眼，道：“我已经解释过了，需要多台机器这是工序问题，多重曝光的原理是把一个复杂图形拆分成多个简单图形，更好的光刻机只是能让每个工序做得更快一些，提高总体产出。”
梁孟松说到这里又再打量他，眼神里有些疑色。
“而且XT1900i在单次曝光制程上已经很难进步，快到极限了，你不知道？”
陈学兵有点懵了。
我又不是专家，上哪知道去？
而且...这才2007年，你跟我说极限？
“不可能吧？不是听说ASML在研究下一代吗？”
梁孟松见他瞪眼加迷茫，这才细细解释道：
“光刻机的精度提升，离不开一个公式，叫瑞利判据。
“计算公式为CD=k₁×λ/NA，CD是单次曝光的线宽，k₁是工艺因子，λ是波长，NA是数值孔径。
“需要线宽更小，就必须减小分子，扩大分母，分子k₁目前的进步十分缓慢，λ波长是193nm，ARF光源，这也无法更改了。
“而分母，数值孔径NA=n×sinθ，θ是物镜最边缘光线与中轴线的半角，n是介质的折射率。
“浸没式光刻机的光介质是水，折射率比空气大很多，约等于1.44，而这台机器的第二代折反式光学镜头已经把θ拉到了大约70°，sin70°≈0.937，NA已经达到了1.35，差不多逼近极限了。
“所以，下一代光刻机，大概率只能从套刻精度上下功夫，提升多重曝光的能力，而单次曝光CD的极限很难提升了。”
这次梁孟松讲得很慢，而且很细，陈学兵边听边想，仍皱眉头。
“那个...水介质，也就是浸没式，不是降低光源波长来提升制程吗？怎么变成提升NA值了？”
“...”